Sun Z., Shao Y., Baraissov Z., Muller D.A., Thompson M.O., Liepe M.U., Porter R.D., Shpani L., Oseroff T.
Ключевые слова: electrochemical process, cavity, fabrication, LTS, Nb3Sn, thin films, roughness, X-ray diffraction, microstructure, resistive transition
© Copyright 2006-2012. Использование материалов сайта возможно только с обязательной ссылкой на сайт.
Свои замечания и пожелания вы можете направлять по адресу perst@isssph.kiae.ru
Техническая поддержка Alexey, дизайн Teodor.